Dr Marcel Rost van het Leids Instituut voor Onderzoek in de Natuurkunde (LION) van de Universiteit Leiden krijgt een onderzoekssubsidie van bijna acht ton van de Technologiestichting STW. Rost zal hiermee de komende jaren onderzoek doen aan fysische verschijnselen bij de afzetting van dunne lagen. De resultaten zullen naar verwachting van groot nut zijn voor machines die de nieuwe generatie computerchips moeten gaan produceren.

Om die reden is een wereldwijd consortium dat zich richt op die volgende generatie chipfabricage, nauw betrokken bij het fundamentele onderzoek van Rost. In het consortium zitten o.a. Intel en ASML. Het onderzoek wordt verricht in samenwerking met het FOM-instituut voor Plasmafysica Rijnhuizen en het bedrijf Carl Zeiss AG (Duitsland) dat ook financieel bijdraagt aan het project.

Het onderzoek geeft tot op de precisie van individuele atomen antwoord op de vraag hoe dunne lagen groeien. Dat is van belang voor het spiegelsysteem waarmee de nog kleinere structuren in de nieuwe computerchips geschreven zullen worden. Door het grote aantal spiegels in zon systeem zal een verbetering van slechts een paar procent in reflectie de opbrengst van geproduceerde chips verdubbelen, en daarmee de economische doorslag geven voor het commerciële succes van de techniek.

Rost wil zich vooral richten op diffusie- en nucleatieverschijnselen tijdens de afzetting van dunne lagen, en de invloed van deze verschijnselen op de gladheid van de te groeien oppervlakken. Diffusie is de manier waarop opgedampte atomen zich verspreiden over het oppervlak. Nucleatie is de wijze waarop vanuit een enkel atoom of enkele atomen een nieuwe laag begint te groeien. Diffusie- en nucleatieverschijnselen zijn mechanismen die de wijze bepalen waarop een dunne laag groeit.

Er ligt een grote uitdaging in de vertaalslag van de microscopische processen naar productie op grote schaal en recepten waar de industrie iets aan heeft. Die innovatieve slag is ook onderdeel van het project.

bron:Universiteit Leiden